衍射光栅丨光学元件丨凯发k8国际中国

平面全息光栅（HG:Holographic Grating），是利用两束激光形成干涉，通过全息曝光法制造出来的光栅。因此,与机械刻线光栅相比,可以获得由于周期误差导致的杂光极少的光栅。

低杂散光衍射光栅［LO-RAY-LIGH］在衍射光栅的生产过程中，以过去凯发k8国际拥有的全息技术为基础，新开发出自有的工艺，并通过蚀刻工程优化，成功地制造出高效率且杂散光极低的衍射光栅。

近红外Ｓ偏光高效衍射光栅从光栅的生产工艺上讲，是在凯发k8国际所拥有的全息技术上采用更加先进的刻蚀加工技术和高精度复制技术上加工出来的，产品达到了高精准高效率的特性。

对光通信领域里所使用的衍射光栅，要求光栅必须具有长寿命、高品质、性能稳定的特性。凯发k8国际的此款光栅符合光通信中关于光接收元器件规格要求，即符合GR-1221-CORE。

高密度刻线是通过进一步提升传统全息技术，实现了3000 ~ 5000条/mm高密度光栅刻线的一款衍射光栅，具有低杂散光且高分辨率的性能，可适用于真空紫外、紫外区域的高分辨率的光谱仪。

凹面衍射光栅具有不使用凹面镜等成像元件就可构成分光光学系统的优点。因此，广泛应有于各种分析仪器、光通信、生物、医疗器械等领域。

环形曲面衍射光栅是在凯发k8国际环形曲面镜「TR系列」的加工技术和低杂散光衍射光栅［LO-RAY-LIGH］的制造技术之上而开发出来的，与原来的像差校正型凹面衍射光栅相比，可更好地校正非点像差。

采用了全息曝光、离子刻蚀的加工技术与光栅设计高维融合后，实现了低杂散光和高衍射效率的性能要求。拥有丰富的适合全自动生化仪使用的产品系列，标准品和定制开发都可以提供安心的技术服务

是一款适用于软x射线波段下的校正像差型凹面层状复制衍射光栅。通过离子刻蚀技术及全息曝光的工艺方法，可实际应用于像差校正型的平场多色仪上。

凯发k8国际采用离子刻蚀技术及全息曝光的工艺方法，加工出可适用于真空紫外及软x线领域使用的层状式衍射光栅。此款光栅刻线的截面形状如上图所示，是矩形形状，是在合成石英的基底上直接刻线加工而成，特别适合斜入射光源的要求。